碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范

General Specification for Silicon Carbide Schottky Barrier Diodes

T/CASAS 001-2018科学研究和技术服务业

现行

更新日期:2026-09-12

标准状态

发布日期

2018-09-21

实施日期

2018-09-21

基础信息

标准号

T/CASAS 001-2018

团体名称

北京第三代半导体产业技术创新战略联盟

包含专利

否

标准分类

国际标准分类号

31.080.01 半导体器分立件综合

行业分类

M732 工程和技术研究和试验发展

标准层级

团体标准

主要技术内容

碳化硅(SiC)是目前发展最成熟的宽禁带半导体之一,具有比硅更高的击穿场强、更快的饱和速度和电子漂移速度、更宽的禁带宽度和更高的热导率等特性,可制作性能更加优异的高效、高温、高频、大功率、抗辐射功率器件。不仅能够在直流、交流输电,不间断电源,开关电源,工业控制等传统工业领域广泛应用,而且在太阳能、风能、电动汽车航空航天等领域也具有广阔的应用前景。随着SiC 肖特基势垒二极管的技术发展、市场逐步开启,Si二极管的标准在某些方面的规定既不能体现SiC二极管优越的特性,也限制了SiC二极管在某些突出特性方面的发展,制定《碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范》,以支撑产品的设计、生产、测量、验收等工作。

起草单位

中国科学院微电子研究所、全球能源互联网研究院有限公司、中国电子科技集团公司第五十五研究所、株洲中车时代电气股份有限公司、龙腾半导体有限公司

起草人

许恒宇、李金元、柏松、李诚瞻、刘鹏飞、万彩萍、查祎英、刘奥、周维、赵璐冰、高伟

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