主要技术内容
本标准规定了200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单（或合同）内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料，采用直拉法制备的直径为200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。
200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers
现行
2018-10-19
2018-11-01
T/ZZB 0648-2018
浙江省品牌建设联合会
否
H82
29.045
C397 电子器件制造
团体标准
本标准规定了200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单（或合同）内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料，采用直拉法制备的直径为200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。
浙江金瑞泓科技股份有限公司、金瑞泓科技（衢州）有限公司
许峰、朱华英、陈平人、田达晰、梁兴勃、刘红方、李方虎、李艳玲
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/NXCL 016-2022 | 200 mm重掺锑直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2022-12-02 | 2022-12-02 |
| T/NXCL 017-2022 | 300 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2022-12-02 | 2022-12-02 |
| T/FSCPLC 01-2022 | 陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系 | 现行 | 2022-12-27 | 2022-12-28 |
| T/FSCS 001-2022 | 陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系 | 现行 | 2022-12-27 | 2022-12-28 |
| GB/T 29506-2013 | 300mm 硅单晶抛光片 | 现行 | 2013-05-09 | 2014-02-01 |
| GB/T 19921-2018 | 硅抛光片表面颗粒测试方法 | 现行 | 2018-12-28 | 2019-07-01 |
| HG/T 2571-2006 | 抛光膏 | 现行 | 2006-07-26 | 2007-03-01 |
| HG/T 4079-2009 | 金属抛光表面质量检测及评判规则 | 现行 | 2009-02-05 | 2009-07-01 |
| JC/T 970.2-2018 | 陶瓷瓷质砖抛光技术装备 第2部分：磨边倒角机 | 现行 | 2018-10-22 | 2019-04-01 |
| YS/T 873-2013 | 铝合金抛光膜层规范 | 现行 | 2013-04-25 | 2013-09-01 |
| YS/T 25-1992 | 硅抛光片表面清洗方法 | 现行 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| GB/T 4058-2009 | 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| GB/T 30712-2014 | 抛光钻石质量测量允差的规定 | 现行 | 2014-03-27 | 2014-10-01 |
| GB/T 26065-2010 | 硅单晶抛光试验片规范 | 现行 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |
| GB/T 12964-2018 | 硅单晶抛光片 | 现行 | 2018-09-17 | 2019-06-01 |
| T/ZZB 0649-2018 | 帆布鞋 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |