Determination of impurity content in trichlorosilane for silicon epitaxy—Inductively coupled plasma mass spectrometry
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 25934.2-2010 | 高纯金化学分析方法 第2部分：ICP-MS-标准加入校正-内标法 测定杂质元素的含量（外文版EN） | 现行 | 2020-12-14 | |
| GB/T 25934.3-2010 | 高纯金化学分析方法 第3部分：乙醚萃取分离ICP-AES法 测定杂质元素的含量（外文版EN） | 现行 | 2020-12-14 | |
| GB/T 12690.13-2026 | 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第13部分：钼、钨含量的测定 | 即将实施 | 2026-02-27 | 2026-09-01 |
| YS/T 980-2014 | 高纯三氧化二镓杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2014-10-14 | 2015-04-01 |
| YS/T 38.3-2023 | 高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-04-21 | 2023-11-01 |
| YS/T 1601-2023 | 六氯乙硅烷中杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-04-21 | 2023-11-01 |
| YS/T 1599-2023 | 高纯锆化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-04-21 | 2023-11-01 |
| YS/T 1600-2023 | 碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-04-21 | 2023-11-01 |
| YS/T 981.1-2024 | 高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 871-2023 | 纯铝化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-12-20 | 2024-07-01 |
| YS/T 1506-2021 | 高纯铱化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2021-12-02 | 2022-04-01 |
| YS/T 1654-2023 | 氮化镓化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-12-20 | 2024-07-01 |
| YS/T 1505-2021 | 高纯钌化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2021-12-02 | 2022-04-01 |
| YS/T 1504-2021 | 高纯钯化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2021-12-02 | 2022-04-01 |
| YS/T 1075.14-2023 | 钒铝、钼铝中间合金化学分析方法 第14部分：痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-12-20 | 2024-07-01 |
| YS/T 1530-2022 | 高纯锡化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2022-09-30 | 2023-04-01 |
| YS/T 1495-2021 | 高纯铑化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2021-12-02 | 2022-04-01 |
| YS/T 1493-2021 | 高纯铂化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2021-12-02 | 2022-04-01 |