硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Determination of impurity content in trichlorosilane for silicon epitaxy—Inductively coupled plasma mass spectrometry

GB/T 29056-2025推荐性国家标准

即将实施

上传时间:2026-03-22
格式:pdf

GB/T 29056-2025 相似标准 第9页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
GB/T 14488.2-2008油料 杂质含量的测定现行2008-11-042009-01-20
JB/T 13306-2017超硬磨料 立方氮化硼杂质含量检测方法现行2017-11-072018-04-01
YS/T 229.4-2013高纯铅化学分析方法 第4部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2013-10-172014-03-01
YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南现行2013-10-172014-03-01
YS/T 34.1-2011高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯砷中杂质含量现行2011-12-202012-07-01
YS/T 917-2013高纯镉化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2013-10-172014-03-01
YS/T 1347-2020高纯铪化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2020-04-162020-10-01
YS/T 870-2020纯铝化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法现行2020-12-092021-04-01
YS/T 922-2013高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2013-10-172014-03-01
YB/T 4590-2017硅材料用高纯石墨制品中杂质含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法现行2017-04-122017-10-01
JC/T 2027-2010高纯石英中杂质含量的测定方法会 电感耦合等离子体原子发射光谱法现行2010-11-102011-03-01
JC/T 2133-2012半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法现行2012-12-282013-06-01
HG/T 3945-2007氯乙烯单体 有机杂质含量的测定现行2007-07-202008-01-01
GB/T 29849-2013光伏电池用硅材料表面金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱测量方法现行2013-11-122014-04-15
GB/T 12690.21-2024稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第21部分:稀土氧化物中硫酸根含量的测定 硫酸钡比浊法现行2024-10-262025-05-01
YY/T 1507.4-2016外科植入物用超高分子量聚乙烯粉料中杂质元素的测定 第4部分 ICP-MS法测定铝(Al)元素含量现行2016-07-292017-06-01
YY/T 1507.1-2016外科植入物用超高分子量聚乙烯粉料中杂质元素的测定 第1部分 ICP-MS法测定钛(Ti)元素含量现行2016-07-292017-06-01
YY/T 1507.3-2016外科植入物用超高分子量聚乙烯粉料中杂质元素的测定 第3部分 ICP-MS法测定钙(Ca)元素含量现行2016-07-292017-06-01