| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 1024-2015 | 溅射用钽靶材 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 1555-2022 | 铂钴铬硼合金溅射靶材 | 现行 | 2022-09-30 | 2023-04-01 |
| YS/T 1357-2020 | 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材 | 现行 | 2020-12-09 | 2021-04-01 |
| JB/T 2965-1992 | 溅射离子泵性能测试方法 | 废止 | 1992-12-24 | 1993-07-01 |
| JB/T 4081-1991 | 溅射离子泵型式与基本参数 | 废止 | 1991-07-22 | 1992-07-01 |
| JB/T 4082-1991 | 溅射离子泵技术条件 | 废止 | 1991-07-22 | 1992-07-01 |
| JB/T 8945-1999 | 真空溅射镀膜设备 | 废止 | 1999-07-12 | 2000-01-01 |
| GB/T 20175-2006 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 废止 | 2006-03-27 | 2006-11-01 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
| T/ZZB 1790-2020 | 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 | 现行 | 2020-11-06 | 2020-11-30 |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | 2018-05-29 |
| T/ZZB 0093-2016 | 集成电路用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2016-09-10 | |
| YS/T 1683-2024 | 磁记录用铬钛合金溅射靶材 | 现行 | 2024-03-29 | 2024-10-01 |
| YS/T 1727-2025 | 高纯钛溅射环 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |