Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 24582-2023 | 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 24582-2009 | 酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质 | 废止 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| GB/T 37049-2018 | 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2018-12-28 | 2019-04-01 |
| DB15/T 1239-2017 | 多晶硅生产净化氢气用活性炭中杂质含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法 | 废止 | 2017-09-10 | 2017-12-10 |
| DB53/T 501-2013 | 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| T/CNIA 0017-2019 | 多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2019-02-13 | 2019-06-01 |
| T/CNIA 0064-2020 | 多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| GB/T 24579-2009 | 酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| YS/T 1768-2025 | 硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定电感耦合等离子体光谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 1290-2018 | 多晶硅生产尾气中硅烷含量的测定 气相色谱法 | 现行 | 2018-10-22 | 2019-04-01 |
| DB53/T 618-2014 | 气相色谱法测定多晶硅生产中氢化尾气 组分含量 | 废止 | 2014-08-28 | 2014-12-01 |
| DB15/T 1241-2017 | 硅烷法生产多晶硅尾气中硅烷含量的测定 气相色谱法 | 废止 | 2017-09-10 | 2017-12-10 |
| DB53/T 747-2016 | 多晶硅生产回收氢气中氯化氢含量的测定 气相色谱法 | 废止 | 2016-03-10 | 2016-06-01 |
| DB53/T 500-2013 | 多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| T/CNIA 0016-2019 | 多晶硅用回收氢气中氯化氢、氮气、氧气、总碳含量的测定 气相色谱法 | 现行 | 2019-02-13 | 2019-06-01 |
| T/CNIA 0060-2020 | 多晶硅用氢气中磷化氢含量的测定 气相色谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| AQ 3065-2025 | 多晶硅安全生产规范 | 现行 | 2025-12-13 | 2026-11-01 |
| GB/T 33236-2016 | 多晶硅 痕量元素化学分析 辉光放电质谱法 | 现行 | 2016-12-13 | 2017-11-01 |