掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment

GB/T 16879-1997推荐性国家标准

现行

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更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
GB/T 15870-1995硬面光掩模用铬薄膜现行1995-12-221996-08-01
GB/T 34178-2017光掩模石英玻璃基板现行2017-09-072018-08-01
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SJ/T 11516-2015薄膜晶体管(TFT)用掩模版规范现行2015-04-302015-10-01
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T/ZS 0344-2022数字化无掩模激光直写光刻机现行2022-11-102022-11-17
YY/T 0796.1-2010医用电气设备 数字X射线成像系统的曝光指数 第1部分:普通X射线摄影的定义和要求现行2010-12-272012-06-01
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GB/T 9582-2008摄影 工业射线胶片 ISO感光度,ISO平均斜率和ISO斜率G2和G4的测定(用X和γ射线曝光)现行2008-09-242009-05-01
GB/T 25073-2010缩微摄影技术 彩色缩微胶片 曝光技术及与之相适应的线条原件和连续色调原件的制备现行2010-09-022010-12-01
GB/T 20224-2006数码照相机曝光指数、ISO感光度值、标准输出灵敏度和推荐曝光指数的确定现行2006-04-052006-11-01
GB/T 15061-1994银盐感光材料感光测定通则 第1 部分:适用于白炽钨光和模拟日光曝光的试样曝光条件现行1994-05-051995-02-01
JB/T 8249.7-1999照相机 曝光自动控制现行1999-08-062000-01-01
JB/T 8254-1999通用摄影光电曝光表现行1999-08-062000-01-01
JB/T 9441-2015静电复印机用曝光卤钨灯管现行2015-04-302015-10-01
JB/T 5196-2014摄影闪光曝光表现行2014-05-122014-10-01
HG/T 2761-1996已曝光胶卷识别现行1996-04-151997-01-01