Test method for crystallographic perfection of epitaxial layers in silicon—Etching technique
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| YC/T 11.5-2006 | 烟草机械 产品图样及设计文件 第5部分：完整性 | 现行 | 2006-02-23 | 2006-03-01 |
| GB/T 21109.3-2026 | 过程工业领域安全仪表系统的功能安全 第3部分：确定要求的安全完整性等级的指南 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| T/CCSAS 004-2019 | 危险化学品企业设备完整性管理导则 | 现行 | 2019-06-26 | 2019-08-01 |
| T/COSHA 014-2022 | 煤气化装置设备完整性管理要求 | 现行 | 2022-08-19 | 2022-08-19 |
| T/CASME 1478-2024 | 智能工厂 数据完整性技术要求 | 现行 | 2024-04-28 | 2024-05-01 |
| T/CPI 68001-2024 | 炼油与化工企业设备完整性管理体系要求 | 现行 | 2024-04-22 | 2024-07-01 |
| T/CPI 65001-2024 | 炼化企业安全仪表系统 安全完整性等级（SIL）评估技术规范 | 现行 | 2024-04-22 | 2024-07-01 |
| T/TAF 331.3-2026 | 信息通信产品运行安全完整性 第3部分：评估指南 | 2026-08-26 | 2026-08-26 | |
| YS/T 24-2016 | 外延钉缺陷的检验方法 | 现行 | 2016-04-05 | 2016-09-01 |
| YS/T 24-1992 | 外延钉缺陷的检验方法 | 废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| GB/T 30654-2014 | Ⅲ族氮化物外延片晶格常数测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| GB/T 30655-2014 | 氮化物LED外延片内量子效率测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| GB/T 8758-2006 | 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法 | 现行 | 2006-07-18 | 2006-11-01 |
| GB/T 24575-2009 | 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| GB/T 30110-2013 | 空间红外探测器碲镉汞外延材料参数测试方法 | 现行 | 2013-12-17 | 2014-05-15 |
| GB/T 43493.2-2023 | 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第2部分：缺陷的光学检测方法 | 现行 | 2023-12-28 | 2024-07-01 |
| GB/T 43493.3-2023 | 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第3部分：缺陷的光致发光检测方法 | 现行 | 2023-12-28 | 2024-07-01 |
| GB/T 30653-2014 | Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |