碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

GB/T 41153-2021推荐性国家标准

现行

上传时间:2026-02-18
格式:pdf

GB/T 41153-2021 相似标准 第13页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
SJ/T 12069-2025半导体器件 分立器件 碳化硅二极管电参数测试方法现行2025-12-192026-07-01
SJ/T 12070-2025半导体器件 分立器件 碳化硅二极管可靠性试验方法现行2025-12-192026-07-01
SJ/T 12071-2025半导体器件 分立器件碳化硅二极管门类规范现行2025-12-192026-07-01
GB/T 48164.2-2026半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)可靠性试验方法 第2部分:体二极管工作引起双极退化的试验方法即将实施2026-08-282027-03-01
GB/T 48164.1-2026半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)可靠性试验方法 第1部分:偏置温度不稳定性试验方法即将实施2026-08-282027-03-01
GB/T 35306-2023硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法现行2023-08-062024-03-01
GB/T 42263-2022硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法现行2022-12-302023-04-01
GB/T 35306-2017硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法废止2017-12-292018-07-01
JB/T 6647-2011碳化物中总碳含量的测定 气体容量法现行2011-12-202012-04-01
GB/T 18876.3-2008应用自动图像分析测定钢和其它金属中金相组织、夹杂物含量和级别的标准试验方法 第3部分 钢中碳化物级别的图像分析与体视学测定现行2008-05-132008-11-01
T/CSTM 00660.2-2023碳化钛渣化学分析方法 第2部分:钛含量的测定 硫酸铁铵滴定法现行2023-04-212023-07-21
T/CSTM 00660.1-2023碳化钛渣化学分析方法 第1部分:游离碳含量的测定 高频燃烧红外吸收法现行2023-04-212023-07-21
YS/T 422.3-2000碳化铬化学分析方法 铁含量的测定废止2000-03-292000-10-01
YS/T 423.5-2025核级碳化硼化学分析方法 第5 部分:氧含量的测定 脉冲加热惰气熔融-红外吸收法现行2025-08-192026-03-01
YS/T 423.4-2025核级碳化硼化学分析方法 第4 部分:铁含量的测定 分光光度法和电感耦合等离子体原子发射光谱法现行2025-08-192026-03-01
YS/T 423.3-2025核级碳化硼化学分析方法 第3 部分:游离硼含量的测定 酸碱滴定法现行2025-08-192026-03-01
YS/T 423.2-2025核级碳化硼化学分析方法 第2 部分:总碳含量的测定 气体容量法和高频燃烧红外吸收法现行2025-08-192026-03-01
YS/T 423.1-2025核级碳化硼化学分析方法 第1 部分:总硼含量的测定 酸碱滴定法现行2025-08-192026-03-01