| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| JB/T 5576-1991 | 真空蒸发光学镀膜设备技术条件 | 现行 | 1991-07-15 | 1992-07-01 |
| JB/T 5575-1991 | 真空蒸发光学镀膜设备技术条件 | 现行 | 1991-07-15 | 1992-07-01 |
| JB/T 5579-1991 | 真空蒸发制镜镀膜设备技术条件 | 现行 | 1991-07-15 | 1992-07-01 |
| JB/T 6922-2015 | 真空蒸发镀膜设备 | 现行 | 2015-10-10 | 2016-03-01 |
| JB/T 6922-1993 | 真空蒸发镀膜设备 | 废止 | 1993-07-13 | 1994-07-01 |
| JB/T 6922-2004 | 真空蒸发镀膜设备 | 废止 | 2004-10-20 | 2005-04-01 |
| T/GVS 012-2023 | 光学真空镀膜职业技能评价规范 | 现行 | 2023-11-27 | 2023-11-27 |
| T/GVS 011-2023 | 光学真空镀膜职业技能培训规范 | 现行 | 2023-11-27 | 2023-11-27 |
| T/GVS 004-2022 | 光学真空镀膜职业技能等级规范 | 现行 | 2022-03-28 | 2022-03-28 |
| SJ/T 11185-1998 | 蒸发镀膜设备通用规范 | 现行 | 1998-03-11 | 1998-05-01 |
| SJ/T 11131-1997 | 蒸发镀膜设备基本参数系列 | 废止 | 1997-09-02 | 1998-01-01 |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | 2024-12-24 |
| GB/T 11164-2011 | 真空镀膜设备通用技术条件 | 现行 | 2011-11-21 | 2012-03-01 |
| T/GVS 001-2021 | 真空镀膜设备 电磁兼容 屏蔽与辐射安全技术规范 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| T/GVS 010-2022 | 真空卷绕镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2022-09-23 | 2022-09-23 |
| GB/T 11164-1999 | 真空镀膜设备通用技术条件 | 废止 | 1999-04-08 | 1999-09-01 |
| JB/T 8945-2010 | 真空溅射镀膜设备 | 现行 | 2010-02-21 | 2010-07-01 |
| JB/T 8946-2010 | 真空离子镀膜设备 | 现行 | 2010-02-21 | 2010-07-01 |