DB13/T 5118-2019 相似标准 第2页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
T/IAWBS 002-2017碳化硅外延片表面缺陷测试方法现行2017-12-31——
T/IAWBS 003-2017碳化硅外延层载流子浓度测定_汞探针电容-电压法现行2017-12-31——
T/ZJATA 0017-2023制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备现行2023-07-20——
T/CNIA 0061-2020硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法现行2020-08-01——
T/CASAS 006-2020碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范现行2021-01-01——
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T/CASAS 001-2018碳化硅肖特基势垒二极管通用技术规范现行2018-09-21——
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DB61/T 1250-2019Sic(碳化硅)材料半导体分立器件通用规范废止2019-07-25找相似
JC/T 3124-2026同质聚氯乙烯卷材地板生产成套装备通用技术要求即将实施2027-02-01找相似
DB3301/T 0428-2023“同线同标同质”产品管理 通用要求废止2024-01-31——
JB/T 6374-2020机械密封用碳化硅密封环 技术条件现行2021-04-01找相似
JB/T 4035-1999阀式避雷器用碳化硅技术条件现行2000-01-01找相似
GB/T 10067.417-2023电热和电磁处理装置基本技术条件 第417部分:碳化硅单晶生长装置现行2023-12-01找相似
T/CIET 1282-2025反应烧结碳化硅/碳化硼陶瓷板技术要求现行2025-05-14——
T/CIET 1279-2025碳化硅单晶生长技术规范 物理气相传输法(PVT)现行2025-05-14——
T/NXCL 011-2022窑具用碳化硅微粉技术规范现行2022-11-18——
JB/T 6374-2006机械密封用碳化硅密封环 技术条件废止2007-07-01找相似