主要技术内容
本文件适用于集成电路用ArF浸没式光刻胶。
ArF immersion photo resist for integrated circuits
现行
2020-12-31
2021-03-01
T/ICMTIA 5.2-2020
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
否
G64
29.045
C266 专用化学产品制造
团体标准
本文件适用于集成电路用ArF浸没式光刻胶。
本文件适用于集成电路用ArF浸没式光刻胶。
宁波南大光电材料有限公司
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
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