主要技术内容
本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。
Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
现行
2020-12-31
2021-03-01
本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。
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宁波南大光电材料有限公司
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
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