集成电路用六氯乙硅烷

Hexachlorodisilane for integrated circuit

T/ICMTIA 3-2020制造业

现行

更新日期:2026-09-12

标准状态

发布日期

2020-02-24

实施日期

2020-04-24

基础信息

标准号

T/ICMTIA 3-2020

包含专利

否

标准分类

中国标准分类号

G86

国际标准分类号

71.100.20 工业气体

标准层级

团体标准

适用范围

本标准适用于以多晶硅副产六氯乙硅烷为原料提纯或化工合成的集成电路用六氯乙硅烷。集成电路用六氯乙硅烷主要用于半导体行业氧化硅膜、氮化硅膜的低温低压沉积工艺中,也是优良的硅氧烷前驱和光学纤维原料。

主要技术内容

本标准规定了集成电路用六氯乙硅烷的技术要求,检测方法,包装与运输及安全的要求。其中,检测方法涵盖抽样和判定原则、组分的测定和杂质元素含量的测定等内容。

起草单位

洛阳中硅高科技有限公司、江苏南大光电材料股份有限公司、江苏雅克科技股份有限公司、中巨芯科技有限公司。

起草人

赵雄、万烨、严大洲、林俊元、崔日、李军、常欣、赵宇、张园园、郭树虎、张啸虎。

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