制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备

Equipment for preparation of nitride semiconductor materials by hydride vapor phase epitaxy

GB/T 36646-2018推荐性国家标准

现行

上传时间:2026-03-18
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GB/T 36646-2018 相似标准 第3页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
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GB/T 4298-1984半导体硅材料中杂质元素的活化分析方法废止1984-03-281985-03-01
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