| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| JB/T 2965-1992 | 溅射离子泵性能测试方法 | 废止 | 1992-12-24 | 1993-07-01 |
| JB/T 4081-1991 | 溅射离子泵型式与基本参数 | 废止 | 1991-07-22 | 1992-07-01 |
| JB/T 4082-1991 | 溅射离子泵技术条件 | 废止 | 1991-07-22 | 1992-07-01 |
| JB/T 8945-1999 | 真空溅射镀膜设备 | 废止 | 1999-07-12 | 2000-01-01 |
| GB/T 20175-2006 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 废止 | 2006-03-27 | 2006-11-01 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | 2018-05-29 |
| T/ZZB 0093-2016 | 集成电路用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2016-09-10 | |
| YS/T 1727-2025 | 高纯钛溅射环 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| T/SZS 4034-2021 | 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范 | 现行 | 2021-07-22 | 2021-07-22 |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | 2018-05-29 |
| YS/T 1851-2026 | 铂钴铬二氧化硅溅射靶材 | 即将实施 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| YS/T 1835-2026 | 高纯钽磁控溅射环 | 即将实施 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| YS/T 644-2007 | 铂钌合金薄膜测定方法 X射线光电子能谱法 测定合金态铂及合金态钌含量 | 现行 | 2007-04-13 | 2007-10-01 |
| GB/T 37329-2019 | 电子围栏导体用铝合金线材 | 现行 | 2019-06-04 | 2020-05-01 |
| GB/T 22085.2-2008 | 电子束及激光焊接接头 缺欠质量分级指南 第2部分：铝及铝合金 | 现行 | 2008-06-26 | 2009-01-01 |
| GB/T 33366-2016 | 电子机柜用铝合金挤压棒材 | 现行 | 2016-12-30 | 2017-07-01 |