Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/IAWBS 010-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 011-2019 | 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 012-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 013-2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 005-2018 | 6 英寸碳化硅单晶抛光片 | 现行 | 2018-12-06 | 2018-12-17 |
| T/ZSA 72-2019 | 碳化硅单晶 | 现行 | 2019-12-31 | 2020-03-01 |
| T/CASAS 009-2019 | 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法 | 现行 | 2019-11-25 | 2019-11-25 |
| T/CASAS 009-2019 | 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法 | 现行 | 2019-11-25 | 2019-11-25 |
| GB/T 24581-2022 | 硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 | 现行 | 2022-03-09 | 2022-10-01 |
| YS/T 1738-2025 | 铸造碳化钨粉 杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YB/T 175-2017 | 金刚砂 碳化硅含量的测定 氢氟酸重量法 | 现行 | 2017-04-12 | 2017-10-01 |
| T/CASAS 032-2023 | 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-06-19 | 2023-06-19 |
| JC/T 2783-2023 | 石墨中碳化硅含量的测定方法 | 现行 | 2023-12-20 | 2024-07-01 |
| SN/T 0256-1993 | 《出口碳化硅分析方法 碳化硅含量的测定》 | 废止 | 1993-10-08 | 1994-05-01 |
| GB/T 24581-2009 | 低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法 | 废止 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| DB63/T 1611-2017 | 光纤预制棒原料四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2017-12-18 | 2018-03-01 |
| T/CNIA 0061-2020 | 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| GB/T 34520.9-2021 | 连续碳化硅纤维测试方法 第9部分：碳含量 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |