Determination of impurity content in trichlorosilane for silicon epitaxy—Inductively coupled plasma mass spectrometry
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 29056-2025 | 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 即将实施 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| YS/T 1060-2015 | 硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| GB/T 30652-2023 | 硅外延用三氯氢硅 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 29056-2012 | 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2012-12-31 | 2013-10-01 |
| YS/T 1059-2015 | 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| GB/T 30652-2014 | 硅外延用三氯氢硅 | 废止 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| DB53/T 501-2013 | 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| DB53/T 500-2013 | 多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| GB/T 28654-2018 | 工业三氯氢硅 | 现行 | 2018-06-07 | 2019-01-01 |
| HG/T 4683-2014 | 三氯氢硅泄漏的处理处置方法 | 现行 | 2014-07-09 | 2014-11-01 |
| T/CCSAS 052-2025 | 三氯氢硅还原法多晶硅生产安全技术规范 | 现行 | 2025-03-03 | 2025-03-03 |
| GB/T 28654-2012 | 工业三氯氢硅 | 废止 | 2012-09-03 | 2013-06-01 |
| DB53/T 499-2013 | 多晶硅用三氯氢硅 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| YS/T 1740-2025 | 电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 987-2014 | 氯硅烷中碳杂质的测定方法——甲基二氯氢硅的测定 | 废止 | 2014-10-14 | 2015-04-01 |
| T/CNIA 0061-2020 | 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| HG/T 4658-2014 | 纺织染整助剂 含氢硅油中活泼氢含量的测定 | 现行 | 2014-05-06 | 2014-10-01 |
| T/FSI 016-2019 | 甲基低含氢硅油 | 现行 | 2019-04-01 | 2019-06-01 |