硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

GB/T 25188-2010 推荐性国家标准

现行

标准状态

2010-09-26

2011-08-01

GB/T 25188-2010

中国科学院

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

中国科学院

G04

71.040.40

国家标准

标准号	标准名称	状态	发布日期	实施日期
GB/T 25188-2010	硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法	现行	2010-09-26	2011-08-01
NY/T 2831-2015	伊犁马	现行	2015-10-09	2015-12-01
NY/T 851-2004	小麦产地环境技术条件	现行	2005-01-04	2005-02-01