| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 30867-2014 | 碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法 | 废止 | 2014-07-24 | 2015-02-01 |
| GB/T 30868-2014 | 碳化硅单晶片微管密度的测定 化学腐蚀法 | 废止 | 2014-07-24 | 2015-02-01 |
| SJ/T 11499-2015 | 碳化硅单晶电学性能的测试方法 | 废止 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| T/IAWBS 011-2019 | 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 013-2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/ZSA 72-2019 | 碳化硅单晶 | 现行 | 2019-12-31 | 2020-03-01 |
| GB/T 6624-2009 | 硅抛光片表面质量目测检验方法 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| GB/T 4058-2009 | 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| YS/T 25-1992 | 硅抛光片表面清洗方法 | 现行 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| GB/T 19921-2018 | 硅抛光片表面颗粒测试方法 | 现行 | 2018-12-28 | 2019-07-01 |
| T/ZZB 2332-2021 | 发光二极管用蓝宝石衬底抛光片 | 现行 | 2021-08-30 | 2021-09-30 |
| SJ/T 11489-2015 | 低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11490-2015 | 低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| GB/T 19921-2005 | 硅抛光片表面颗粒测试方法 | 废止 | 2005-09-19 | 2006-04-01 |
| DB12/T 101.253-2003 | 工业产品取水定额 砷化镓抛光片 | 废止 | 2003-09-03 | 2003-09-03 |
| T/CASAS 054-2025 | 氮化铝抛光片吸收系数测试方法 | 现行 | 2025-05-20 | 2025-05-20 |
| T/CASAS 053-2025 | 氮化铝抛光片位错密度的测试 腐蚀坑法 | 现行 | 2025-05-20 | 2025-05-20 |
| GB/T 26065-2010 | 硅单晶抛光试验片规范 | 现行 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |