Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 20176-2025 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 | 现行 | 2026-01-01 | 找相似 |
| GB/T 20176-2006 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 | 废止 | 2006-11-01 | 找相似 |
| GB/T 30702-2014 | 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南 | 现行 | 2014-12-01 | 找相似 |
| GB/T 45769-2025 | 表面化学分析 X射线光电子能谱 均匀材料中元素检测限的评估和报告 | 现行 | 2026-01-01 | 找相似 |
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| GB/T 25186-2010 | 表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 | 现行 | 2011-08-01 | 找相似 |
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| GB/T 40129-2021 | 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准 | 现行 | 2021-12-01 | 找相似 |
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| GB/T 34174-2017 | 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序 | 现行 | 2018-08-01 | 找相似 |
| T/CNEA 249.9-2024 | 核工业用锆及锆合金化学分析方法 第9部分:表面氯含量的测定离子选择电极法 | 现行 | 2025-02-02 | —— |