| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 12852-2001 | 磁控管总规范 | 现行 | 2002-05-01 | 找相似 |
| GB/T 19510.209-2023 | 光源控制装置 第2-9部分：放电灯（荧光灯除外）用电磁控制装置的特殊要求 | 现行 | 2026-01-01 | 找相似 |
| DL/T 1725-2017 | 超高压磁控型可控并联电抗器技术规范 | 现行 | 2017-12-01 | 找相似 |
| DL/T 1217-2013 | 磁控型可控并联电抗器技术规范 | 现行 | 2013-08-01 | 找相似 |
| JB/T 14307-2022 | 磁控开关阀 | 现行 | 2023-04-01 | 找相似 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| GB/T 42742-2023 | L波段75kW连续波磁控管技术要求 | 现行 | 2023-12-01 | 找相似 |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-09-01 | 找相似 |
| GB/T 12853-2001 | 连续波磁控管空白详细规范 | 现行 | 2002-05-01 | 找相似 |
| SJ/T 10157-2001 | 脉冲磁控管空白详细规范 | 现行 | 2002-05-01 | 找相似 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-10-01 | 找相似 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2018-04-01 | 找相似 |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | —— |
| T/CES 209-2023 | 12kV磁控柱上开关技术规范 | 现行 | 2023-09-11 | —— |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | —— |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | —— |
| T/QGCML 4060-2024 | 磁控管双孔电容 | 现行 | 2024-04-30 | —— |