| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 1129-2016 | 钨钛合金靶材 | 现行 | 2016-07-11 | 2017-01-01 |
| YS/T 1158.2-2016 | 铜铟镓硒靶材化学分析方法 第2部分：硒量的测定 重量法 | 现行 | 2016-07-11 | 2017-01-01 |
| YS/T 1124-2016 | 磁性溅射靶材透磁率测试方法 | 现行 | 2016-07-11 | 2017-01-01 |
| YS/T 1158.1-2016 | 铜铟镓硒靶材化学分析方法 第1部分：镓量和铟量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2016-07-11 | 2017-01-01 |
| YS/T 1156-2016 | 铜铟镓硒靶材 | 现行 | 2016-07-11 | 2017-01-01 |
| GB/T 39159-2020 | 集成电路用高纯铜合金靶材 | 现行 | 2020-11-19 | 2021-10-01 |
| GB/T 39160-2020 | 薄膜太阳能电池用碲锌镉靶材 | 现行 | 2020-11-19 | 2021-10-01 |
| GB/T 23611-2023 | 金及金合金靶材 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2013-09-06 | 2014-05-01 |
| GB/T 43603.2-2024 | 镍铂靶材合金化学分析方法 第2部分：镁、铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、铜、锌、锆、银、钯、锡、钐、铅、硅含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-03-15 | 2024-10-01 |
| T/CIET 722-2024 | 半导体用高纯溅射靶材 | 现行 | 2024-10-23 | 2024-10-23 |
| T/CSEA 26-2023 | 电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件 | 现行 | 2023-02-07 | 2023-03-01 |
| YS/T 1063-2015 | 钼靶材 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 1220-2018 | 铬靶材 | 现行 | 2018-04-30 | 2018-09-01 |
| YS/T 1635-2023 | 镍铬合金靶材 | 现行 | 2023-12-20 | 2024-07-01 |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 1024-2015 | 溅射用钽靶材 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 1053-2015 | 电子薄膜用高纯钴靶材 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |