半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

GB/T 24578-2024 推荐性国家标准

现行

标准状态

发布日期

2024-07-24

实施日期

2025-02-01

基础信息

标准号

GB/T 24578-2024

批准发布部门

国家标准委

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H21

国际标准分类号

77.040

标准层级

国家标准

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