| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| HG/T 4683-2014 | 三氯氢硅泄漏的处理处置方法 | 现行 | 2014-11-01 | 相似 |
| GB/T 28654-2018 | 工业三氯氢硅 | 现行 | 2019-01-01 | 相似 |
| GB/T 30652-2023 | 硅外延用三氯氢硅 | 现行 | 2024-03-01 | 相似 |
| GB/T 29056-2012 | 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2013-10-01 | 相似 |
| GB/T 29056-2025 | 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 即将实施 | 2026-05-01 | 相似 |
| T/CCSAS 052-2025 | 三氯氢硅还原法多晶硅生产安全技术规范 | 现行 | 2025-03-03 | —— |
| YS/T 1060-2015 | 硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法 | 现行 | 2015-10-01 | 相似 |
| YS/T 1059-2015 | 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法 | 现行 | 2015-10-01 | 相似 |
| GB/T 28654-2012 | 工业三氯氢硅 | 废止 | 2013-06-01 | 相似 |
| GB/T 30652-2014 | 硅外延用三氯氢硅 | 废止 | 2015-09-01 | 相似 |
| DB53/T 499-2013 | 多晶硅用三氯氢硅 | 废止 | 2013-10-01 | 相似 |
| DB53/T 501-2013 | 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2013-10-01 | 相似 |
| DB53/T 500-2013 | 多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法 | 废止 | 2013-10-01 | 相似 |
| YS/T 1740-2025 | 电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法 | 现行 | 2025-11-01 | 相似 |
| YS/T 987-2014 | 氯硅烷中碳杂质的测定方法——甲基二氯氢硅的测定 | 废止 | 2015-04-01 | 相似 |
| HG/T 4332-2012 | 三氯异氰尿酸泄漏的处理处置方法 | 现行 | 2013-06-01 | 相似 |
| HG/T 4335.10-2012 | 酸类物质泄漏的处理处置方法 第10部分：氟硅酸 | 现行 | 2013-06-01 | 相似 |
| HG/T 4333.1-2012 | 氰化物泄漏的处理处置方法 第1部分：氰化钠 | 现行 | 2013-06-01 | 相似 |