半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

GB/T 24578-2024推荐性国家标准

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GB/T 24578-2024 相似标准 第6页

更新时间 2026-10-25
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