Specification for registration marks for photomasks
现行
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 16524-1996 | 光掩模对准标记规范 | 现行 | 1996-09-09 | 1997-05-01 |
| SJ/T 10274-1991 | 掩模对准曝光机测试方法 | 现行 | 1991-11-12 | 1992-01-01 |
| GB/T 34326-2017 | 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法 | 废止 | 2017-09-29 | 2018-08-01 |
| GB/T 34326-2026 | 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| DB13/T 6236-2025 | PAS系列投影光刻机同轴对准系统激光器更换及光路调整一般要求 | 现行 | 2025-12-16 | 2026-01-16 |
| GB/T 16523-1996 | 圆形石英玻璃光掩模基板规范 | 现行 | 1996-09-09 | 1997-05-01 |
| SJ/T 11516-2015 | 薄膜晶体管（TFT）用掩模版规范 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11863-2022 | 单片超大尺寸掩模板装载盒规范 | 现行 | 2022-10-20 | 2023-01-01 |
| GB/T 16880-1997 | 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则 | 现行 | 1997-06-20 | 1998-03-01 |
| GB/T 17866-1999 | 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 | 现行 | 1999-09-13 | 2000-06-01 |
| GB/T 15871-1995 | 硬面光掩模基板 | 现行 | 1995-12-22 | 1996-08-01 |
| GB/T 15870-1995 | 硬面光掩模用铬薄膜 | 现行 | 1995-12-22 | 1996-08-01 |
| GB/T 34178-2017 | 光掩模石英玻璃基板 | 现行 | 2017-09-07 | 2018-08-01 |
| GB/T 16879-1997 | 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 | 现行 | 1997-06-20 | 1998-03-01 |
| SJ/T 31080-2016 | 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法 | 现行 | 2016-01-15 | 2016-06-01 |
| T/ZS 0344-2022 | 数字化无掩模激光直写光刻机 | 现行 | 2022-11-10 | 2022-11-17 |
| GB/T 36338-2018 | 信息处理用藏文文献文本信息标记规范 | 现行 | 2018-06-07 | 2019-01-01 |
| DB22/T 3306-2021 | 大麻哈鱼耳石热标记技术规范 | 现行 | 2021-11-26 | 2021-12-15 |