| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| T/CASAS 048-2025 | 碳化硅单晶生长用等静压石墨 | 现行 | 2025-04-23 | —— |
| T/CASAS 036-2025 | 碳化硅单晶生长用等静压石墨构件纯度测定方法 辉光放电质谱法 | 现行 | 2025-04-23 | —— |
| T/NXCL 017-2022 | 300 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2022-12-02 | —— |
| T/NXCL 016-2022 | 200 mm重掺锑直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2022-12-02 | —— |
| T/ZZB 2675-2022 | TVS用硅单晶研磨片 | 现行 | 2022-05-13 | —— |
| T/IAWBS 016-2022 | 碳化硅单晶片 X 射线双晶摇 摆曲线半高宽测试方法 | 现行 | 2022-03-24 | —— |
| T/IAWBS 001-2021 | 碳化硅单晶 | 现行 | 2021-09-23 | —— |
| T/IAWBS 014-2021 | 碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法 | 现行 | 2021-09-22 | —— |
| T/IAWBS 013-2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 现行 | 2019-12-31 | —— |
| T/IAWBS 012-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法 | 现行 | 2019-12-31 | —— |
| T/IAWBS 011-2019 | 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法 | 现行 | 2019-12-31 | —— |
| T/IAWBS 010-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法 | 现行 | 2019-12-31 | —— |
| T/ZZB 0648-2018 | 200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2018-11-01 | —— |
| T/IAWBS 001-2017 | 碳化硅单晶 | 现行 | 2017-12-31 | —— |
| GB/T 47404-2026 | 碳化硅单晶 | 即将实施 | —— | 找相似 |
| JC/T 2796-2023 | 碳化硅单晶用高纯石墨粉 | 现行 | 2024-07-01 | 找相似 |
| YS/T 1600-2023 | 碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-11-01 | 找相似 |
| YS/T 1167-2016 | 硅单晶腐蚀片 | 现行 | 2017-01-01 | 找相似 |