SJ/T 11414-2010 相似标准 第7页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
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GB/T 42742-2023L波段75kW连续波磁控管技术要求现行2023-12-01找相似
GB/T 45345-2025金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量现行2025-09-01找相似
GB/T 12853-2001连续波磁控管空白详细规范现行2002-05-01找相似
SJ/T 10157-2001脉冲磁控管空白详细规范现行2002-05-01找相似
SJ/T 10478-1994磁控溅射设备通用技术条件现行1994-10-01找相似
GB/T 34649-2017磁控溅射用钌靶现行2018-04-01找相似
T/GVS 017-2024连续式光学磁控溅射镀膜设备现行2024-12-24——
T/CES 209-202312kV磁控柱上开关技术规范现行2023-09-11——
T/GVS 002-2021高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求现行2021-06-28——
T/CIE 132-2022磁控溅射设备薄膜精度测试方现行2022-08-10——
T/QGCML 4060-2024磁控管双孔电容现行2024-04-30——
T/GDSHJXH 010-2025首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范现行2025-01-22——
T/CSEA 15-2021真空磁控溅射镀银工艺及质量检验现行2021-02-01——
T/ZZB 1583-2020固定式健身器材 家用磁控健身车现行2020-05-30——
T/ZZB 0639-2018氧化锌铝磁控溅射靶材现行2018-11-01——
SJ/T 11535-2015磁控管调制器通用规范现行2015-10-01找相似
NB/T 42028-2014磁控电抗器型高压静止无功补偿装置(MSVC)废止2014-08-01找相似