| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 6616-2009 | 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法 | 废止 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| GB/T 26068-2010 | 硅片载流子复合寿命的无接触微波反射光电导衰减测试方法 | 废止 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |
| GB/T 24578-2015 | 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法 | 废止 | 2015-12-10 | 2017-01-01 |
| GB/T 29507-2013 | 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法 | 现行 | 2013-05-09 | 2014-02-01 |
| GB/T 26068-2018 | 硅片和硅锭载流子复合寿命的测试 非接触微波反射光电导衰减法 | 现行 | 2018-12-28 | 2019-11-01 |
| GB/T 42907-2023 | 硅锭、硅块和硅片中非平衡载流子复合寿命的测试 非接触涡流感应法 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 19444-2025 | 硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 40279-2021 | 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 | 现行 | 2021-08-20 | 2022-03-01 |
| GB/T 32280-2015 | 硅片翘曲度测试 自动非接触扫描法 | 废止 | 2015-12-10 | 2017-01-01 |
| DB15/T 4004-2025 | 温室气体 产品碳足迹量化方法与要求 光伏硅片 | 现行 | 2025-04-18 | 2025-05-18 |
| GB/T 30701-2014 | 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定 | 现行 | 2014-03-27 | 2014-12-01 |
| GB/T 29505-2013 | 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 | 现行 | 2013-05-09 | 2014-02-01 |
| HG/T 5962-2021 | 硅片切割废液处理处置方法 | 现行 | 2021-08-21 | 2022-02-01 |
| GB/T 37051-2018 | 太阳能级多晶硅锭、硅片晶体缺陷密度测定方法 | 现行 | 2018-12-28 | 2019-04-01 |
| SJ/T 10627-1995 | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 | 现行 | 1995-04-22 | 1995-10-01 |
| GB/T 11073-2007 | 硅片径向电阻率变化的测量方法 | 废止 | 2007-09-11 | 2008-02-01 |
| GB/T 11073-2025 | 硅片径向电阻率变化测量方法 | 即将实施 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| T/CPIA 0091-2024 | 温室气体 产品碳足迹量化方法与要求 光伏硅片 | 现行 | 2024-12-15 | 2024-12-30 |