Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 43663-2024 | 表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性 | 现行 | 2024-03-15 | 2024-10-01 |
| GB/T 45768-2025 | 表面化学分析 二次离子质谱 单离子计数飞行时间质谱分析器的强度标线性 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 20176-2025 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 40129-2021 | 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| GB/T 39145-2020 | 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-10-11 | 2021-09-01 |
| GB/T 24582-2023 | 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| T/CASAS 032-2023 | 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-06-19 | 2023-06-19 |
| GB/T 20176-2006 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 | 废止 | 2006-03-27 | 2006-11-01 |
| GB/T 24582-2009 | 酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质 | 废止 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| YS/T 1864-2026 | 流化床法颗粒硅表面金属含量的测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 即将实施 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| GB/T 30654-2014 | Ⅲ族氮化物外延片晶格常数测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| GB/T 30655-2014 | 氮化物LED外延片内量子效率测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| GB/T 8758-2006 | 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法 | 现行 | 2006-07-18 | 2006-11-01 |
| GB/T 30110-2013 | 空间红外探测器碲镉汞外延材料参数测试方法 | 现行 | 2013-12-17 | 2014-05-15 |
| GB/T 30653-2014 | Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| GB/T 14142-2017 | 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| GB/T 14847-2010 | 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 | 废止 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |
| SJ/T 10481-1994 | 硅外延层电阻率的面接触三探针方法 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |