Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 14847-2025 | 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试红外反射法 | 即将实施 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| GB/T 14847-2010 | 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 | 废止 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |
| GB/T 42905-2023 | 碳化硅外延层厚度的测试红外反射法 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 42905-2023 | 碳化硅外延层厚度的测试红外反射法（外文版EN） | 现行 | 2024-04-12 | |
| T/IAWBS 007-2018 | 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法 | 现行 | 2018-12-06 | 2018-12-17 |
| T/IAWBS 007-2018 | 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法 | 现行 | 2018-12-06 | 2018-12-17 |
| GB/T 8758-2006 | 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法 | 现行 | 2006-07-18 | 2006-11-01 |
| YS/T 23-2016 | 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法 | 现行 | 2016-04-05 | 2016-09-01 |
| YS/T 14-2015 | 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 15-2015 | 硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| YS/T 23-1992 | 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法 | 废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| YS/T 15-1991 | 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法 | 废止 | 1991-04-26 | 1992-06-01 |
| YS/T 14-1991 | 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法 | 废止 | 1991-04-26 | 1992-06-01 |
| GB/T 30110-2013 | 空间红外探测器碲镉汞外延材料参数测试方法 | 现行 | 2013-12-17 | 2014-05-15 |
| GB/T 40279-2021 | 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 | 现行 | 2021-08-20 | 2022-03-01 |
| GB/T 44995-2024 | 聚丙烯包装容器 掺杂回收塑料初筛测试方法构建指南 | 现行 | 2024-11-28 | 2025-06-01 |
| T/GDCKCJH 027-2020 | 稀土掺杂激光玻璃光吸收和荧光特性测试方法 | 现行 | 2020-08-28 | 2020-10-01 |
| T/GDCKCJH 027-2020 | 稀土掺杂激光玻璃光吸收和荧光特性测试方法 | 现行 | 2020-08-28 | 2020-10-01 |