| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 893-2013 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 837-2012 | 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| YS/T 1358-2020 | 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| YS/T 819-2012 | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| GB/T 20175-2025 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 现行 | 2026-01-01 | 找相似 |
| GB/T 32999-2016 | 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率 | 现行 | 2017-09-01 | 找相似 |
| YS/T 1124-2016 | 磁性溅射靶材透磁率测试方法 | 现行 | 2017-01-01 | 找相似 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2014-05-01 | 找相似 |
| T/CIET 722-2024 | 半导体用高纯溅射靶材 | 现行 | 2024-10-23 | —— |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1024-2015 | 溅射用钽靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1555-2022 | 铂钴铬硼合金溅射靶材 | 现行 | 2023-04-01 | 找相似 |
| YS/T 1357-2020 | 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| JB/T 2965-1992 | 溅射离子泵性能测试方法 | 废止 | 1993-07-01 | 找相似 |
| JB/T 4081-1991 | 溅射离子泵型式与基本参数 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| GB/T 20175-2006 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 废止 | 2006-11-01 | 找相似 |
| T/ZZB 0093-2016 | 集成电路用高纯钛溅射靶材 | 现行 | —— | —— |
| YS/T 1683-2024 | 磁记录用铬钛合金溅射靶材 | 现行 | 2024-10-01 | 找相似 |