Surface chemical analysis - Depth profiling - Measurment of sputtered depth
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| JB/T 4081-2011 | 真空技术 溅射离子泵 | 现行 | 2012-04-01 | 找相似 |
| YS/T 893-2013 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 837-2012 | 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| YS/T 1358-2020 | 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| YS/T 819-2012 | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-09-01 | 找相似 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1124-2016 | 磁性溅射靶材透磁率测试方法 | 现行 | 2017-01-01 | 找相似 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2018-04-01 | 找相似 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2014-05-01 | 找相似 |
| GB/T 25755-2010 | 真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量 | 现行 | 2011-10-01 | 找相似 |
| T/CI 863-2024 | 硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件 | 现行 | 2024-12-30 | —— |
| T/ZZB 1790-2025 | 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 | 现行 | 2025-07-12 | —— |
| T/CIET 722-2024 | 半导体用高纯溅射靶材 | 现行 | 2024-10-23 | —— |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | —— |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | —— |