碳化硅单晶

Monocrystalline silicon carbide

GB/T 47404-2026推荐性国家标准

即将实施

上传时间:2026-04-24
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GB/T 47404-2026 相似标准 第7页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
T/SCS 000013-2021碳化硼-碳化硅芯块 无机阴离子(F-、Cl-、Br-、I-)的测定 离子色谱法现行2021-05-142021-06-01
T/CFA 02020501042-2023铸造熔炼用碳化硅现行2023-03-012023-06-01
T/SDAMA 010-2025碳化硅陶瓷晶舟制品用高纯碳化硅粉体现行2025-05-302025-05-30
T/CIET 1282-2025反应烧结碳化硅/碳化硼陶瓷板技术要求现行2025-05-142025-05-14
T/SDAMA 008-2025碳化硅陶瓷晶舟现行2025-03-172025-03-17
T/CASAS 032-2023碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法现行2023-06-192023-06-19
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T/CASAS 025-20238英寸碳化硅衬底片基准标记及尺寸现行2023-06-192023-06-19
T/NXCL 011-2022窑具用碳化硅微粉技术规范现行2022-11-182022-11-18
T/CASAS 016-2022碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法现行2022-07-182022-07-18
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T/CASAS 014-2021碳化硅衬底基平面弯曲的测定 高分辨X射线衍射法现行2021-11-012021-12-01
T/CASAS 013-2021碳化硅晶片位错密度检测方法 KOH腐蚀结合图像识别法现行2021-11-012021-12-01
T/CASAS 006-2020碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范现行2020-12-282021-01-01
T/CASAS 007-2020电动汽车用碳化硅(SiC)场效应晶体管(MOSFET)模块评测规范现行2020-05-252020-05-25
T/CASAS 009-2019半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法现行2019-11-252019-11-25
T/IAWBS 007-20184H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法现行2018-12-062018-12-17
T/IAWBS 006-2018碳化硅混合模块测试方法现行2018-12-062018-12-17