Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| T/XAI 8-2021 | 覆晶薄膜化锡厚度测试方法 库仑法 | 现行 | 2021-04-16 | —— |
| GB/T 24577-2009 | 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| GB/T 30701-2014 | 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定 | 现行 | 2014-12-01 | 找相似 |
| GB/T 29505-2013 | 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 | 现行 | 2014-02-01 | 找相似 |
| GB/T 40110-2021 | 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染 | 现行 | 2021-12-01 | 找相似 |
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| GB/T 25256-2026 | 光学功能薄膜 离型膜180°剥离力和残余黏着率测试方法 | 即将实施 | 2026-10-01 | 找相似 |
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| GB/T 6672-2001 | 塑料薄膜和薄片厚度测定 机械测量法 | 现行 | 2002-05-01 | 找相似 |
| GB/T 36053-2018 | X射线反射法测量薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、准直和定位、数据采集、数据分析和报告 | 现行 | 2019-02-01 | 找相似 |
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