首页/GB/T 25188-2010 相似标准

硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

GB/T 25188-2010推荐性国家标准

现行

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GB/T 25188-2010 相似标准 第3页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
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T/IAWBS 010-2019碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法现行2019-12-272019-12-31
T/IAWBS 012-2019碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法现行2019-12-272019-12-31
T/IAWBS 002-2017碳化硅外延片表面缺陷测试方法现行2017-12-202017-12-31
GB/T 43894.1-2024半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）现行2024-04-252024-11-01
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