YS/T 1727-2025 相似标准 第3页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
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YS/T 837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法现行2013-03-01找相似
YS/T 1358-2020磁记录用铁钴钽合金溅射靶材现行2021-04-01找相似
YS/T 718-2009平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶现行2010-06-01找相似
YS/T 719-2009平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶现行2010-06-01找相似
GB/T 45345-2025金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量现行2025-09-01找相似
GB/T 20175-2025表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法现行2026-01-01找相似
GB/T 32999-2016表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率现行2017-09-01找相似
SJ/T 10478-1994磁控溅射设备通用技术条件现行1994-10-01找相似
YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法现行2017-01-01找相似
GB/T 34649-2017磁控溅射用钌靶现行2018-04-01找相似
GB/T 25755-2010真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量现行2011-10-01找相似
T/CI 863-2024硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件现行2024-12-30——
T/ZZB 1790-2025铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备现行2025-07-12——
T/GVS 017-2024连续式光学磁控溅射镀膜设备现行2024-12-24——
T/GVS 002-2021高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求现行2021-06-28——
T/CIE 132-2022磁控溅射设备薄膜精度测试方现行2022-08-10——
T/GDSHJXH 010-2025首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范现行2025-01-22——