硅外延片

Silicon epitaxial wafers

GB/T 14139-2009推荐性国家标准

废止

GB/T 14139-2009 相似标准 第3页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态实施日期相似标准
GB/T 29056-2025硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法即将实施2026-05-01找相似
GB/T 14847-2025重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法即将实施2026-05-01找相似
T/CASAS 003-2018p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片现行2018-11-20——
T/IAWBS 003-2017碳化硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法现行2017-12-31——
GB/T 42905-2023碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法(外文版EN)现行——找相似
YS/T 1060-2015硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法现行2015-10-01找相似
YS/T 1059-2015硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法现行2015-10-01找相似
YS/T 15-2015硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法现行2015-10-01找相似
YS/T 23-1992硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法废止1993-01-01找相似
YS/T 15-1991硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法废止1992-06-01找相似
GB/T 14142-1993硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法废止1993-10-01找相似
GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法废止2010-06-01找相似
GB/T 14863-2013用栅控和非栅控二极管的电压电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的方法废止2014-08-15找相似
GB/T 30652-2014硅外延用三氯氢硅废止2015-09-01找相似
T/CASAS 003-2018p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片现行2018-11-20——
T/IAWBS 003-2017碳化硅外延层载流子浓度测定_汞探针电容-电压法现行2017-12-31——
T/CNIA 0061-2020硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法现行2020-08-01——